(一) 光阻減量(cost down): 20% (1 to 0.8c.c), -2W NTD/month 調整噴塗佈步驟參數，減化光阻劑的種類以及開發較低成本的光阻劑並且同時維持產品的品質，來有效地降低光阻劑整體的用量。 學習技能:光阻塗佈機(Track)參數設定與機台結構了解、產品的品質規範驗證、跨部門合作的協調能力。 (二) 產品的品質控管與機台認證(maintain Quality & expand of production) 學習技能: 統計製程管制(statistical process control, SPC)手法與判斷、跨部門實驗的安排與溝通。 (三) 光阻入廠驗證(verify PR. Quality) by batch的確認目前下一瓶的品質，確保生產過程中的穩定性並可即時調整參數以確保最佳的產品品質。 學習技能: 來料規格與COA的檢閱與判讀、廠商的應對協調。

(一) 新原料驗證開發降低成本(cost down): -1.34cent/pc 成功導入細粉料的使用方式，2015年獲得Motech wafer廠年度團隊合作獎(teamwork)的肯定。 學習技能:新原料的特性品質、P/N type電性、填裝取捨的相關知識與廠商的溝通能力。 (二) 製程優化改善(Continuous Improvement Process):+2.4%產出, -0.1% Low graded Eff. 優化的製程參數增加 wafer產出數量;量產作業規範的改善，減少低效片產出的的產出率。 在此業務的學習技能:機台結構改造、製程參數調整與生產線各部門溝通。